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   {TCS(三氯氢硅)的应用  回到 普气、特气

氯硅烷的一般应用——硅外延

——SiHCl3 +  H2  >> (Si poly)  + 3 HCl 


  ——生成的HCl是移除杂质的良好介质

  ——在超大规模COMS制造中使用非常普遍

  ——使用TCS通过西门子提炼法生长硅外延



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