氯硅烷的一般应用——硅外延
——SiHCl3 + H2 >> (Si poly) + 3 HCl
——生成的HCl是移除杂质的良好介质
——在超大规模COMS制造中使用非常普遍
——使用TCS通过西门子提炼法生长硅外延
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